2018-2019年度，微电子所韦亚一研究员率领先导中心计算光刻研发中心团队与上海积塔半导体有限公司，围绕集成电路先进光刻制造光学邻近效应修正开展了深度合作。
合作中，韦亚一团队与上海积塔半导体就实际生产面临的光学临近修正问题，根据其工艺和产品特征，开展了光源优化、OPC建模、版图优化以及硅验证等工作。目前已帮助积塔半导体完成5轮OPC工作并顺利流片，直接支撑了积塔半导体在0.18微米技术节点的量产工艺研发，同时帮助积塔半导体建立OPC研发团队。
本次合作是微电子韦亚一团队继与中芯国际、长江存储等国内集成电路制造企业合作之后，再次对实际制造产业企业进行指导，帮助企业建立光学临近效应的修正的流程，助其突破关键技术实现量产。
上海积塔半导体有限公司拥有5英寸、6英寸、8英寸晶圆生产线，专注于模拟电路、功率器件的制造，是国内最早从事汽车电子芯片、IGBT芯片制造的企业。
图1 版图
图2 图一部分图形和对应的光学临近效应修正后的版图
综合信息