专利名称: 等平面场氧化隔离结构及其形成方法
专利类别: 发明专利
申请号: 201210521736.4
申请日期: 2012-12-06
专利号: 201210521736.4
第一发明人: 许高博;徐秋霞
实施情况: 授权
专利证书号: 201210521736.4
其它备注: 十室