专利名称: 双金属栅极CMOS器件及其制造方法
专利类别: 国际专利
申请号: PCT/CN2012/075685
申请日期: 2012-05-17
专利号: 9,384,986
第一发明人: 殷华湘;付作振;徐秋霞;陈大鹏
实施情况: 授权
专利证书号: 9,384,986
其它备注: 十室