| 专利名称: | 一种Mo基/TaN金属栅叠层结构的刻蚀方法 |
| 专利类别: | 发明 |
| 申请号: | 201010223348.9 |
| 申请日期: | 2010-06-30 |
| 专利号: | ZL201010223348.9 |
| 第一发明人: | 李永亮,徐秋霞 |
| 其它备注: | 十室 |
| 专利名称: | 一种Mo基/TaN金属栅叠层结构的刻蚀方法 |
| 专利类别: | 发明 |
| 申请号: | 201010223348.9 |
| 申请日期: | 2010-06-30 |
| 专利号: | ZL201010223348.9 |
| 第一发明人: | 李永亮,徐秋霞 |
| 其它备注: | 十室 |
科研产出