专利名称: 半导体器件及其制造方法
专利类别: 实用新型
申请号: 201190000081.5
申请日期: 2011-11-01
专利号: ZL201190000081.5
第一发明人: 尹海洲,朱慧珑,骆志炯
其它备注: 十室