论文编号: 1725110120140218
第一作者所在部门: EDA中心
论文题目: A chemical mechanical planarization model for aluminum gate structures
作者: 徐勤志
刊物名称: Microelectronic Engineering
: 2014
: 131
: 1
: 58
联系作者: 徐勤志
影响因子: 1.338