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科研动态

国家科技重大专项项目“32纳米以下设备关键技术研究及创新设备技术探索”通过项目验收

稿件来源: 发布时间:2015-07-22

  7月18-19日,国家科技重大专项项目“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(以下简称02专项)实施管理办公室组织专家对“32纳米以下设备关键技术研究及创新设备技术探索”项目进行了验收。02专项总体组技术副总师王曦院士,中科院微电子所所长叶甜春、副所长刘新宇等出席了会议,专家组成员、项目相关科研和管理人员共70余人参加了验收会。 

  该项目由中科院微电子所牵头,合作单位包括清华大学、中科院光电技术研究所、无锡华瑛微电子技术有限公司等,主要进行新原理设备研发工作,取得了如下成果:研制了8台原理样机;开发了与新原理设备相适应的配套工艺,包括超浅结制造注入工艺,超浅掺杂退火工艺,高K栅介质制作技术,无损伤、高效、低排放、节水清洗工艺,超精细和低损伤刻蚀工艺,无掩模光刻技术工艺,超临界化学清洗工艺及常压等离子体去胶工艺等关键工艺;建立了32纳米关键技术及创新设备试验平台,面向社会开展了技术共享和服务;申请专利302项,其中国内发明专利259项(授权77项)、实用新型专利12项、外观专利12项、国际专利19项,计算机软件登记7项;翻译著作1部;获得北京市科学技术奖2项。 

  验收会上,专家组认真听取了项目和课题负责人关于项目完成情况的汇报,现场审阅了科研、财务等验收材料,实地考察了项目研发平台。经过充分讨论、质询和评议,专家组对项目取得的研究成果给予高度评价,一致认为该项目验收文档齐全,各项功能和指标均达到项目任务书要求,同意通过项目验收。

 

 

验收会现场

实地考察项目研发平台

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