近日，微电子所EDA中心韦亚一研究员团队在计算光刻领域的两篇综述论文，分别聚焦对准套刻技术及光学邻近效应修正技术，成功入选中国激光杂志社Researching刊群平台推出的“2025年光学论文下载排行Top5”榜单。其中，《集成电路制造工艺波动与对准套刻技术（特邀）》在《光学学报（网络版）》下载量排序第2；《基于模型的光学邻近效应修正应用技术（特邀）》在《光学学报》下载量排序第4。获奖证书见下图。
韦亚一团队此次入选的两篇论文，通过深入探讨对准套刻技术和光学邻近效应修正技术的创新应用，为集成电路制造中的关键技术问题提供了积极的理论支持和实践指导。相关论文得到了中国科学院先导项目、国家自然科学基金、中国科学院青年创新促进会等课题支持。
该榜单根据论文的综合访问量和下载量评选出最受关注的研究成果，旨在展示2025年度最受关注、最具影响力的科研成果。本期评选期刊为Advanced Photonics、Advanced Photonics Nexus、Photonics Research、High Power Laser Science and Engineering、Chinese Optics Letters、Photonics Insights、Advanced Imaging、《中国激光》、《光学学报》、《激光与光电子学进展》和《光学学报（网络版）》。
参考链接：
https://www.clp.ac.cn/News/Details?id=PT260201000016SxU1X
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