1月31日，集成电路制造技术全国重点实验室第一届学术委员会第三次会议在微电子所召开。微电子所副所长曹立强、实验室学术委员会副主任叶甜春研究员先后主持会议。
参加会议的有集成电路制造技术重点实验室学术委员会主任吴汉明院士，副主任郝跃院士、刘明院士、叶甜春研究员，委员李树深院士、孙凝晖院士、彭练矛院士、祝宁华院士、罗先刚院士、江风益院士、杨德仁院士、毛军发院士、张荣院士、魏少军教授、赵元富研究员、蔡一茂教授、徐文伟教授、麦沛然教授、赵志勇副总裁；特邀专家张跃院士、施毅院士、樊仲维院士、孙洪波院士、金洲研究员；微电子所所长、党委书记戴博伟，副所长曹立强，全国重点实验室主任李泠，副主任罗军、王启东以及实验室的科研骨干人员等。
会议合影
戴博伟代表实验室依托单位对各级领导、各位专家院士的莅临表示诚挚感谢。2026年全国重点实验将接受科技部的评估，希望各位专家对实验室2025年度工作进行检查和指导，同时，指出实验室存在的不足并提出建议和意见，为下一阶段的评估工作奠定基础。中国科学院战略高技术局信息科技处处长付广义介绍了科技部的全国重点实验室评估要求，以及中国科学院针对评估已经开展的各项工作，建议依托单位和实验室认真做好本次评估准备工作，为未来的工作打好基础。
戴博伟致辞
李泠报告了集成电路制造技术全国重点实验室2025年度工作，介绍了实验室的战略定位和目标任务，从实验室成果概述、科研工作进展、开放与合作交流等三个部分阐述了实验室年度科研进展情况，并详细汇报了下一阶段工作计划。王盛凯研究员、窦春萌研究员、王嘉玮副研究员、陈睿研究员四名青年骨干做了学术进展报告。
李泠作工作报告
与会专家围绕重点实验室建设进行了深入讨论，从面向国家重大需求、明确使命定位和研究方向、加强基础研究、推进平台共享、加强人才队伍建设、加强产学研合作、凝练亮点成果等方面对实验室发展战略、评估、以及下一步规划提出了意见建议。
下一步，集成电路制造技术全国重点实验室将进一步强化国家战略科技力量使命担当，面向国家集成电路领域重大战略需求和国际科学前沿重大问题，积极开展集成电路制造应用基础研究。同时，积极部署各项评估准备工作，认真梳理成果和凝练亮点，在评估工作中取得优异成绩，建设成为集成电路领域国际一流实验室。
综合信息