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| 第一作者所在部门: | |
| 论文题目: | 高线密度X射线透射光栅的制作工艺 |
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| 作者: | 朱效立 马杰 曹磊峰 杨家敏 谢常青 刘明 陈宝钦 牛洁斌 张庆钊 姜骥 赵珉 叶甜春 |
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| 刊物名称: | 《半导体学报》 |
| 年: | 2007 |
| 卷: | 28 |
| 期: | 12 |
| 页: | 2006-2010 |
| 联系作者: | 朱效立 |
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| 摘要: | 采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5 mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性. |
| 英文摘要: | |
| 外单位作者单位: | |
| 备注: | 基金项目：国家重点基础研究发展规划(批准号:2007CB935302),国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA843134)和国家自然科学基金(批准号:90607022)资助项目
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