2010年12月，经过精心周密策划的微波器件与集成电路研究室（四室）统计过程控制（SPC）体系项目建设初步建设成功，这标志着四室的产品工艺质量管理水平即将迈上新的台阶。

　　为了保障项目产品在制造阶段的质量，对工艺生产过程实行有效监控，及时预防并检测出特殊变异原因，采取对策，保持过程处于统计控制状态，在室领导的大力支持下，研究室于2010年2月成立SPC项目实施小组，由魏珂担任组长，组员涵盖工艺平台、测试平台、开发平台，以及各个课题组研究人员。室主任刘新宇研究员亲自负责SPC项目实施管理的督导工作。

　　经过长达10个月的项目实施工作，在全体GaN课题组、测试平台和工艺平台成员的共同协助下，目前基本完成就SPC体系建立工作，实现了工艺平台设备和工艺流程的初步监控，为工艺平台设备和工艺流程的规范性管理打下了基础，保障了制造技术平台的技术水平和能力。

　　针对SPC体系的建立，主要完成了四部分工作：

　　1. 为保证SPC体系的有效运行，建立了适合于实施SPC的环境

　　为保证SPC体系的有效运行，制定了详细的SPC体系建设推进计划和切实可行的实施方案，开展了3期SPC系统培训，并在工作中实行周例会Review机制，形成解决问题的闭环机制。为保障工序能力的持续进行，编制了一套SPC体系文件，通过质量处定期审核。

　　2. 工艺控制点SPC的设定与控制方案

　　通过对原有工艺平台和拟新增工艺环节的高级流程图分析，确定了36个关键过程节点， 针对初步设定的SPC控制点，我们在本课题研制产品的全部过程中加以严格监控，。

　　3. 配置合适的测量系统

　　为保证测试数据的稳定性和可靠性，按照测量系统分析程序和计划、SPC测试方案展开了一次系统的测量系统分析。通过进行测量系统分析（MSA），为配置合适的测量系统提供了保障。

　　4. 工艺流程和工艺线设备的监控

　　针对GaN功率器件制作流程，绘制了部分关键工艺控制图，实现了工艺过程的初步监控。

　　针对监控过程发现SPC异常，基本采用闭环处理原则进行改进，让生产过程恢复到统计控制状态。

　　通过对SPC体系的建设，使项目组成员对SPC有一个更全面的认识，能更好利用过程控制及改进思想、科学的统计方法进行科研活动，提高工作效率，合理分配资源，实现价值最大化。

　　图1 SPC主要控制内容

　　图2 测量系统分析实例（直流、小信号、Load-pull测试系统）图

　　图3 处于受控状态的控制图、工序能力分析图实例