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微电子所采用 SiCMOS工艺在单通道超高速ADC芯片研制上取得进展
2009-11-26 | 编辑: | 【 【打印】【关闭】
 

  日前,中科院微电子所专用集成电路与系统研究室(二室)陈勇博士生在周玉梅研究员、黑勇研究员的带领及巨浩等模拟设计人员的协助下,借助电子系统总体技术研究室测试仪器,采用SMIC 0.18um CMOS混合信号工艺自主研制的6bit 1.2GHz单通道超高速ADC芯片取得进展。

  测试结果表明,该款ADC芯片工作频率可以达到1.2GHz。在1.2GHz采样率下,输入信号频率1MHz有效位5.3bit,输入信号频率501MHz有效位4.2bit,实现了宽输入信号频率、高采样频率的工作状态,INLDNL均小于0.6LSB,整体功耗小于270mW,在相关研究领域中处于领先地位。

  传统的超高速ADC一般采用BiCMOS工艺或者更为优良的GaAsSiGe工艺,达到超高速的同时带来了芯片成本的急剧上升。微电子研究所二室采用SiCMOS工艺的研究成果,为低成本、高集成化的通信应用提供了解决方案。  

  

  1 超高速ADC芯片  

  

  2 研究室测试环境

 

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《芯天地》2009年第6期
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