11月24日，芬兰倍耐克公司（Beneq）李烁工程师来我所进行了“原子层沉积技术及应用”的学术介绍，并与三室师生进行了热烈的讨论与交流。

　　李烁工程师讲到，原子层沉积（atomic layer deposition，ALD），最初于70年代由芬兰科学家提出，并用于平板显示器所需的多晶荧光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3绝缘膜的研制。多年来，原子层淀积技术的应用范围从液晶显示面板到工业涂层等多种领域。目前，正在逐渐成为微电子器件制造领域的必须。它具有单原子层逐次沉积，沉积层厚度均匀的特点，可沉积丰富的材料。

　　通过这次交流，三室师生受益匪浅，不仅加深入了对原子层沉积技术的了解，同时又丰富了专业知识，为今后科研工作的展开打下了良好基础。